金刚石的射频喷射等离子体化学气相沉积及其Ni-N掺杂的研究

• 作者: 刘浩 孙占峰 左勇刚 李佳君 李彬 白旸 石彦超 陈广超 马殿理
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 化学气相沉积 射频喷射等离子体 金刚石 Ni-N掺杂
• 年，卷（期）: 2015,（10）
• 页码范围: 2670-2678
• 页数: 9页
• 分类号: O482.31
• 字数: 3852字
• 语种: 中文

摘要

对自行设计的RF喷射等离子体增强化学气相沉积系统(RF plasma jet CVD)进行了电子温度和电子密度的模拟计算分析.在优化的参数下进行了金刚石膜体的制备,并应用光发射谱技术(OES)在线分析了等离子体的成分.通过Raman、XRD和SEM分析了沉积样品的成分、晶体结构和形貌.通过在反应气体中加入NH3,并利用载气技术将含有Ni元素的金属有机物引入到沉积区,进行了Ni、N共掺杂沉积.利用XPS以及PL谱分析了掺杂样品的化学价键和光致发光特性,结果发现Ni-N价键的存在以及在800 nm附近的光发射峰.