基于CFD研究釉浆压力对陶瓷静电施釉的影响

• 作者: 吴琦 徐晗 徐磊 韩文
• 来源期刊: 硅酸盐通报
• 学科: 工学
• 关键词: 压力 静电场 施釉 釉滴 CFD
• 年，卷（期）: 2015,（9）
• 所属期刊栏目: 试验与技术
• 页码范围: 2691-2695,2701
• 页数: 6页
• 分类号: TQ174
• 字数: 3008字
• 语种: 中文

摘要

针对陶瓷在施釉过程中,制品表面釉滴分布不均匀的问题,采用欧拉-拉格朗日法构建了在静电场力作用下的DPM模型,并基于CFD软件分析了1.5 bar、2.5 bar和5 bar三种压力情况下静电施釉过程中釉滴的粒径和运动速度分布情况.结果表明:在静电场作用和不同的压力作用下,可使得喷枪的雾化效果发生改变,能得到不同大小、不同均匀程度的釉滴粒径,并能获得不同釉滴的运动速度和分布.其中在施加2.5 bar压力条件下釉滴粒径均匀,釉浆雾化的效果最好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐晗	景德镇陶瓷学院机械电子工程学院	7	34	4.0	5.0
2	韩文	景德镇陶瓷学院机械电子工程学院	36	109	6.0	9.0
3	徐磊	景德镇陶瓷学院机械电子工程学院	5	4	1.0	2.0
4	吴琦	景德镇陶瓷学院机械电子工程学院	4	0	0.0	0.0