氧化石墨烯及热还原产物对CH4和H2的敏感性能研究

• 作者: 侯若男 刘海峰 孙红娟 彭同江
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 化学
• 关键词: 氧化石墨烯 热还原 气敏性
• 年，卷（期）: 2015,（16）
• 所属期刊栏目: 研究?开发
• 页码范围: 16079-16085
• 页数: 7页
• 分类号: O649
• 字数: 5641字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/ji.ssn1.001-97312.0151.60.13

摘要

以 Hummers法获得的氧化石墨为原料制备氧化石墨烯，在不同温度下还原获得不同还原程度的还原氧化石墨烯，采用AFM、XRD、XPS和SEM 对样品的结构、官能团及表面形貌进行表征，并采用涂覆法制备氧化石墨烯和还原氧化石墨烯气敏器件。结果表明，所得氧化石墨烯片厚度为10．8～17．2 n m ，为单层或双层氧化石墨烯。经100～250℃还原后，样品对应的底面间距由88．7nm减小至36．8nm ；随还原程度增加，O／C原子比由04．3降至03．2；含氧官能团逐渐减少，其中C‐OH含量明显降低；元件灵敏度降低。氧化石墨烯及其低还原程度产物的气敏元件对C H4和H2气体表现出较高的响应和灵敏度，S‐G O S对C H4的灵敏度可达81％左右，对H2灵敏度可达772．％。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘海峰	西南科技大学分析测试中心	32	224	8.0	14.0
2	彭同江	西南科技大学分析测试中心	252	2575	22.0	36.0
6	孙红娟	西南科技大学矿物材料及应用研究所	175	1799	18.0	33.0
7	侯若男	西南科技大学理学院	2	18	2.0	2.0