低温制备针对KDP晶体的防潮双层宽带增透膜

• 作者: 周小卫 张清华 李晓光 沈军 王晓栋 肖波凯
• 来源期刊: 化工新型材料
• 关键词: 防潮 增透 MTES-TEOS双层膜 KDP晶体 溶胶-凝胶法
• 年，卷（期）: 2015,（10）
• 所属期刊栏目: 新材料与新技术
• 页码范围: 37-39
• 页数: 3页
• 语种: 中文

摘要

在惯性约束聚变(ICF)装置中,大量使用有变频特性的水溶性磷酸二氢钾(KDP)类晶体材料,但KDP晶体需要有效的保护膜防止其潮解.由于KDP晶体元件晶相转变温度低,对湿度比较敏感,在很大的程度上限制了膜层制备和后处理工艺.以甲基三乙氧基硅烷(MTES)为原料,采用溶胶-凝胶技术和提拉方式制作防潮膜,仅仅以100℃以下温度进行热处理,再以正硅酸乙酯(TEOS)为原料,在镀有热处理后的防潮膜的基底上采用上述工艺镀制光学减反膜.对组合薄膜的防潮、光学性能、结构等进行了测试表征.结果显示防潮性能佳,而且在特定波长532nm有高达99.76％的透过率.薄膜中存在大量的甲基(-CH3),是性能优良的且能在较低的温度下进行制备的防潮增透膜,可用于三倍频晶体KDP的增透与保护.