浅析半导体硅片的超声和兆声清洗技术

• 作者: 张倩
• 来源期刊: 电子测试
• 关键词: 硅片 清洗 超声 兆声
• 年，卷（期）: 2015,（13）
• 所属期刊栏目: 科技论坛
• 页码范围: 151-152,146
• 页数: 3页
• 字数: 3290字
• 语种: 中文

摘要

本文主要介绍的是有关半导体硅片生产过程中的超声和兆声清洗技术应用，并对两种清洗技术当中的运行原理与特征等进行了详细阐述。并在此基础上综合研究存在问题与解决对策，分析两者技术之间的差异性。希望能够对进一步提升清洗技术发展起到促进作用。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张倩		1	2	1.0	1.0