强磁场对不同厚度Fe-Ni纳米多晶薄膜的生长过程及磁性能的影响?

• 作者: 曹永泽 李国建 王强 赫冀成 隋旭东 马永会
• 来源期刊: 物理学报
• 关键词: 强磁场 气相沉积 生长过程 磁性能
• 年，卷（期）: 2015,（6）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 067501-1-067502-5
• 页数: 1页
• 语种: 中文
• DOI: 10.7498/aps.64.067502

摘要

有无6 T强磁场条件下,利用分子束气相沉积方法制备了21 nm和235 nm厚的Fe-Ni纳米多晶薄膜.研究发现,0T时,21nm厚的薄膜是晶粒堆叠而成,晶粒尺寸为6—7nm；6T时,21nm厚的薄膜首先在基片表面形成了晶粒相互连接的5 nm平坦层,晶粒沿基片表面拉长,随后以6—7 nm尺寸的晶粒堆叠而成；0 T时,235 nm厚度的薄膜生长初期平均晶粒尺寸为3.6 nm,生长中期平均晶粒尺寸为5.6 nm,生长末期薄膜近似柱状方式生长,晶粒沿生长方向拉长；6 T时,235 nm厚度的薄膜在基片表面也形成了晶粒相互连接的5 nm平坦层,晶粒沿基片表面拉长,随后以尺寸均匀的6.1 nm晶粒堆叠而成；而且,6 T强磁场使得不同厚度薄膜的面外与面内矫顽力都降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赫冀成	东北大学材料电磁过程研究教育部重点实验室	320	2811	26.0	36.0
2	王强	东北大学材料电磁过程研究教育部重点实验室	112	750	15.0	23.0
3	李国建	东北大学材料电磁过程研究教育部重点实验室	6	13	3.0	3.0
4	马永会	东北大学材料电磁过程研究教育部重点实验室	4	7	1.0	2.0
5	曹永泽	东北大学材料电磁过程研究教育部重点实验室	3	10	2.0	3.0
6	隋旭东	东北大学材料电磁过程研究教育部重点实验室	1	1	1.0	1.0