电阻热蒸法制备Cu2 O薄膜及其光学性能

• 作者: 宋扬 彭英姿 徐娙梅 杨凌云
• 来源期刊: 山东化工
• 学科: 工学
• 关键词: Cu2O 热退火 XRD AFM 吸收谱
• 年，卷（期）: 2015,（7）
• 所属期刊栏目: 科研与开发
• 页码范围: 6-9
• 页数: 4页
• 分类号: TB383
• 字数: 2331字
• 语种: 中文

摘要

用电阻热蒸法在玻璃基底上沉积铜薄膜，然后在空气中退火得到铜氧化物薄膜。分别用XRD、AFM、紫外-可见分光光度计对薄膜进行表征，研究退火温度及退火时间对铜氧化物薄膜结构和光学性能的影响。结果表明140~180℃退火时可以得到纯的Cu2 O，薄膜表面颗粒大小在0.80~0.90μm之间，直接禁带宽度在1.8~2.5eV之间。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐娙梅	杭州电子科技大学理学院应用物理系	13	12	2.0	3.0
2	宋扬	杭州电子科技大学理学院应用物理系	2	0	0.0	0.0
3	彭英姿	杭州电子科技大学理学院应用物理系	6	18	2.0	4.0
4	杨凌云	杭州电子科技大学理学院应用物理系	1	0	0.0	0.0