实验条件对a-CNx∶H薄膜光学性质影响的研究进展

• 作者: 吴卫东 马婷婷
• 来源期刊: 机电信息
• 关键词: 射频功率 基片 刻蚀 退火 实验条件 a-CNx∶H薄膜 光学性质
• 年，卷（期）: 2015,（24）
• 所属期刊栏目: 工艺与技术
• 页码范围: 90-90,91
• 页数: 2页
• 字数: 2755字
• 语种: 中文

摘要

非晶碳氢薄膜a‐CNx ∶ H是一类具有亚稳态非晶结构的薄膜材料，具有很多类似金刚石的优异特性，现基于a‐CNx ∶ H薄膜优异的光学性质，研究射频功率、基片、刻蚀、退火等不同实验条件下制备的 a‐CNx ∶ H 薄膜，采用综合对比分析法，得出实验条件对其光学性质的影响。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴卫东	西南科技大学理学院	140	1087	18.0	26.0
3	马婷婷	西南科技大学理学院	18	20	2.0	4.0