一种新型双重图形技术拆分方法

• 作者: 于丽贤 粟雅娟 韦亚一
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻 双重图形技术(DPT) 图形拆分 光学临近效应修正(OPC) 奇数周期
• 年，卷（期）: 2016,（4）
• 所属期刊栏目: 加工、测量与设备
• 页码范围: 259-264
• 分类号: TN305.7
• 语种: 中文
• DOI: 10.13250/j.cnki.wndz.2016.04.009

摘要

基于奇数周期理论,提出一种新型快速高效率的双重图形技术(DPT)拆分方法.对于图形拆分过程中遇到的剩余违规冲突问题,分析其存在的原因,阐述了已知解决途径;基于奇数周期理论,详细阐述了新型图形拆分方法的实现步骤,该方法主要适用于未在设计阶段考虑兼容DPT的设计版图,能够对版图顺利完成包含更改设计和引入切割的图形拆分过程;采用新方法拆分实际版图,进一步证明了该方法能够同时减少剩余冲突和引入切割数目;采用EDA工具模拟了拆分之后进行光源掩膜优化(SMO)和光学临近效应修正(OPC)的光刻分辨率增强流程,验证了DPT能够提高分辨率、增大光刻工艺窗口.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	粟雅娟	中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技术重点实验室	9	29	3.0	5.0
2	韦亚一	中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技术重点实验室	9	7	2.0	2.0
3	于丽贤	中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技术重点实验室	1	3	1.0	1.0