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摘要:
本文主要研究(TiZr)N硬质膜的沉积工艺波动范围及影响.考察了阴极靶电流、N2气流量等工艺参数对膜层组织和性能的影响.研究表明,沉积工艺参数的波动变化不会对膜层组织、力学性能产生明显影响.(TiZr)N硬质膜的沉积工艺参数可以有较大的波动范围,沉积工艺窗口具有良好的可应用性.
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内容分析
关键词云
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文献信息
篇名 (TiZr)N硬质膜的沉积工艺研究
来源期刊 真空 学科 工学
关键词 (TiZr)N硬质膜 多弧离子镀 沉积工艺 力学性能
年,卷(期) 2016,(1) 所属期刊栏目 薄膜
研究方向 页码范围 17-20
页数 分类号 TB752.2|TB43
字数 语种 中文
DOI 10.13385/j.cnki.vacuum.2016.01.04
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 张钧 沈阳大学机械工程学院 49 208 8.0 12.0
2 刘冬玲 沈阳大学机械工程学院 2 2 1.0 1.0
3 明悦 3 2 1.0 1.0
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2016(1)
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研究主题发展历程
节点文献
(TiZr)N硬质膜
多弧离子镀
沉积工艺
力学性能
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空
双月刊
1002-0322
21-1174/TB
大16开
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
8-30
1964
chi
出版文献量(篇)
2692
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3
总被引数(次)
12898
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