离子注入制备Al2O3阻氚涂层中氧兀素分布的研究

• 作者: 但敏 冯军 李炯 沈丽如 童洪辉 赖新春 金凡亚 陈美艳
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 离子注入 氧元素分布 加速电压 剂量
• 年，卷（期）: 2016,（5）
• 所属期刊栏目: 功能薄膜
• 页码范围: 504-509
• 分类号: TB43
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjovst.2016.05.02

摘要

对离子注入制备Al2O3涂层中的氧元素分布进行了分析,研究在不同加速电压、剂量离子注入参数下,氧元素的深度、浓度的变化规律,并根据相关规律对涂层进行了优化.结果表明:在单一加速电压下,氧元素分布符合准高斯分布;加速电压的增大将使氧元素分布深度变大,但浓度分布梯度将变小.在剂量达到8×1017 ions/cm2及以上时,由于离子注入使晶粒纳米化,氧元素浓度分布变得很均匀.通过以上分析,进行了叠加注入优化氧元素分布,具体参数为:加速电压分别为30,50,70 kV,剂量分别为2.5×1017,2×1017,3.5×1017 ions/cm2,测试结果表明,浓度分布更均匀,阻氚性能也得到较大提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈美艳		17	34	4.0	4.0
2	金凡亚		57	226	8.0	12.0
3	沈丽如		52	377	11.0	16.0
4	李炯		10	102	6.0	10.0
5	童洪辉		51	520	10.0	21.0
6	冯军		34	180	4.0	12.0
8	但敏		28	57	4.0	5.0
9	赖新春		21	41	3.0	5.0