FIB/SEM双束系统在微纳米材料电学性能测试中的应用

• 作者: 彭开武
• 来源期刊: 电子显微学报
• 学科: 工学
• 关键词: 聚焦离子束 双束系统 微纳米材料 电学性能 电极制备 电子束曝光
• 年，卷（期）: 2016,（1）
• 所属期刊栏目: [FIB 专栏?综述]
• 页码范围: 75-80
• 页数: 6页
• 分类号: TH73|TG115.26|TB383|TG115.21+5.3
• 字数: 4142字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-6281.2016.01.013

摘要

电学性能测试是微纳米材料物性研究的重要组成部分，测试电极的制备是其中一个难点。光学光刻、电子束曝光或聚焦离子束加工是三种不同的电极制备技术。每种技术都有自己的特点，采用何种技术取决于微纳米材料的尺寸、形态及测试目的等诸多因素。此外，选择适当的制样方法对后续的电学性能测试也很关键。本文以一台配备了电子束曝光功能附件的聚焦离子束( FIB)/扫描电子显微镜( SEM)双束系统为工具，结合光学光刻等其它加工技术，详细介绍了其针对不同类型微纳米材料进行电极制备的过程和方法。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	彭开武		3	12	2.0	3.0