双频Nd∶YVO4微片激光器功率均衡研究

• 作者: 卢旸 周凯 周雪芳 巩续仁 张瑜 李齐良 胡淼 蔡炬 魏一振
• 来源期刊: 光电子·激光
• 学科: 工学
• 关键词: 双频微片激光器 受激发射截面 功率均衡 温控
• 年，卷（期）: 2016,（2）
• 所属期刊栏目: 光电子器件和系统
• 页码范围: 145-149
• 页数: 5页
• 分类号: TN248.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.16136/j.joel.2016.02.0702

摘要

根据微片激光器工作温度、增益介质发射谱和谐振波长三者的关系,研究了双频Nd∶YVO4微腔激光器的功率均衡机制.在实验中,通过温控调节双频激光波长和发射谱的相对漂移,实现了双频激光的相对功率可调.实验结果表明,当激光器温度在2.5～22.5℃范围增加时,双频激光的右峰/左峰相对功率比从6.471变化到0.028;当温控在9.1℃时,双频激光的相对功率比约为1.00∶1.00,实现了功率均衡;当温控在7.5℃时,双频激光的相对功率比为1.89∶1.00,此时双频激光的功率乘积最大,可实现最高拍频效率.