锗窗口上沉积DLC膜致其面形变化的原因初探

• 作者: 尹国良 李刚 谢启明 高原
• 来源期刊: 云光技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 锗窗口 DLC膜 面形 不规则度IRR
• 年，卷（期）: ygjs_2016,（1）
• 页码范围: 27-31
• 页数: 5页
• 分类号: O484.1

摘要

在锗窗口上沉积类金刚石（DLC）薄膜的过程中，发现镀膜后锗窗口的面形一般都会产生显著变化，这为此类元件的面形控制带来不确定性，因此有必要对其面形变化的原因进行分析和研究，并呆取相应措施减小其变形；或找到其变化规律，指导此类元件的加工。对不同电阻率的锗窗口进行DLC膜制备，并优化DLC膜的镀制工艺，结果发现电阻率和锗窗口变形没有明显的对应关系；优化后的DLC膜镀制工艺对锗窗变形的影响也不大。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	谢启明		9	7	2.0	2.0
2	李刚		2	0	0.0	0.0
3	高原		1	0	0.0	0.0
4	尹国良		2	0	0.0	0.0