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摘要:
随着半导体厂房对环境要求越来越高,尤其是高端半导体产品对腐蚀性气体的含量要求越来越高,现有的洁净室技术并不能满足这些高端半导体的生产厂房(如32 nm/28 nm高端制程)的洁净要求.因此,开发一种低成本的洁净室,并能避免腐蚀性气体影响,对于一些高端半导体的生产厂房具有积极的显示意义.
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悬浮微粒
内容分析
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关键词热度
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文献信息
篇名 一种用于半导体厂房的洁净室技术领域
来源期刊 洁净与空调技术 学科
关键词 半导体 开发 洁净室 高端 厂房
年,卷(期) 2016,(1) 所属期刊栏目 经验交流
研究方向 页码范围 86-88
页数 3页 分类号
字数 2786字 语种 中文
DOI
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作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 施晓燕 2 1 1.0 1.0
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2017(2)
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研究主题发展历程
节点文献
半导体
开发
洁净室
高端
厂房
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
洁净与空调技术
季刊
1005-3298
11-3395/TM
16开
北京海淀区万寿路27号
82-577
1994
chi
出版文献量(篇)
1908
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7
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