沉积温度对AZO薄膜性能的影响

• 作者: 李晓东 邵世强
• 来源期刊: 玻璃与搪瓷
• 学科: 工学
• 关键词: AZO薄膜 磁控溅射 沉积温度 性能 微观结构
• 年，卷（期）: 2016,（1）
• 所属期刊栏目: 研究与实验报告
• 页码范围: 1-4
• 页数: 4页
• 分类号: TQ133.1
• 字数: 2533字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13588/j.cnki.g.e.1000-2871.2016.01.001

摘要

在采用直流磁控溅射制备AZO(Aluminum Doped Zinc Oxide,掺铝氧化锌)薄膜的过程中,AZO薄膜的光电性能取决于镀膜过程中的各种工艺参数,包括溅射气压、沉积温度、溅射功率和靶基距等.本文主要研究在固定其它工艺参数不变的情况下,通过改变沉积温度在不同的温度下分别制备AZO薄膜,利用SEM、X射线衍射仪等测试不同AZO薄膜的微观结构,并分析研究不同沉积温度下制备AZO薄膜光电性能及结构的变化特性,以筛选出制备高质量AZO膜的最佳沉积温度.