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黑硅技术的专利分析
黑硅技术的专利分析
作者:
姚日英
宫龙飞
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
黑硅
飞秒激光
离子束刻蚀
金属诱导辅助
电化学
专利分析
摘要:
针对黑硅技术进行专利技术综述分析,对国内外专利申请情况进行梳理,为国内黑硅技术研究发展提供参考.
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黑硅技术的专利分析
来源期刊
太阳能
学科
关键词
黑硅
飞秒激光
离子束刻蚀
金属诱导辅助
电化学
专利分析
年,卷(期)
2016,(3)
所属期刊栏目
技术产品与工程
研究方向
页码范围
38-39
页数
2页
分类号
字数
946字
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
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1
姚日英
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飞秒激光
离子束刻蚀
金属诱导辅助
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专利分析
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研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
太阳能
主办单位:
中国可再生能源学会
出版周期:
月刊
ISSN:
1003-0417
CN:
11-1660/TK
开本:
16开
出版地:
北京市海淀区花园路3号
邮发代号:
2-164
创刊时间:
1980
语种:
chi
出版文献量(篇)
5613
总下载数(次)
10
总被引数(次)
15507
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