对痕量甲醛气体敏感的SnO2-NiO纳米材料的X射线光电子谱研究

• 作者: 吕品 唐祯安 张绍成
• 来源期刊: 辽宁大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: X射线光电子谱 SnO2-NiO纳米材料 甲醛气体 吸附氧
• 年，卷（期）: 2016,（1）
• 所属期刊栏目: 物理与工程
• 页码范围: 32-36
• 页数: 5页
• 分类号: TN389
• 字数: 2296字
• 语种: 中文

摘要

本文研究了对痕量甲醛气体敏感的SnO2-NiO纳米材料的X射线光电子谱(XPS).通过对XPS O1s和Sn3d5/2分峰的分析证实了SnO2-NiO纳米材料是氧化态.在SnO2-NiO纳米材料的表面观察到了SnO2、SnO、NiO和Ni2O3,而以SnO2为主要成分,NiO含量很低.由于掺杂了低浓度NiO使SnO2-NiO纳米材料表面吸附氧的数量极大地增加,从而增加了材料表面反应活性点,进而使SnO2-NiO纳米材料对痕量甲醛(HCHO)气体的气敏性能大大提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	唐祯安	大连理工大学电子和信息工程学院	142	1281	17.0	29.0
2	吕品	辽宁大学物理学院	24	113	6.0	10.0
3	张绍成	辽宁大学计算中心	23	138	6.0	11.0