掺铈PI/SnO2复合薄膜的制备及光催化性能

• 作者: 孙博华 李艳丽 李青
• 来源期刊: 印染助剂
• 学科: 工学
• 关键词: 聚酰亚胺 离子交换 金属氧化物 光催化
• 年，卷（期）: 2016,（3）
• 所属期刊栏目: 研究报告 Research Reports
• 页码范围: 8-12
• 页数: 5页
• 分类号: TQ323.7
• 字数: 3349字
• 语种: 中文

摘要

以聚酰亚胺（PI）为基体，采用离子交换法制备Ce掺杂PI/SnO2复合薄膜。考察了不同制备条件对其性能的影响，并进一步研究了Ce掺杂量及离子交换液浓度对复合薄膜的影响。利用SEM、EDAX、XRD、FTIR等对复合薄膜进行表征，并且以亚甲基蓝为模拟污染物，根据对亚甲基蓝的降解率评价薄膜的光催化性能。研究结果表明，煅烧温度330℃，煅烧时间4 h，Ce掺杂量为30%，离子交换液浓度0.4 mol/L时，光催化效果最好，光照射2 h亚甲基蓝降解率可达94.5%，TOC去除率75.3%。回收复合薄膜进行二次利用，降解效果良好。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李青	北京服装学院材料科学与工程学院	44	184	8.0	12.0
2	孙博华	北京服装学院材料科学与工程学院	2	1	1.0	1.0
3	李艳丽	北京服装学院材料科学与工程学院	1	0	0.0	0.0