外源H2S对低温下日光温室黄瓜光合作用及抗氧化系统的影响

• 作者: 吴帼秀 周超凡 李婷 李清明 毕焕改 艾希珍
• 来源期刊: 园艺学报
• 学科: 农学
• 关键词: 黄瓜 低温胁迫 活性氧 光合作用 硫化氢
• 年，卷（期）: 2016,（3）
• 所属期刊栏目: 蔬菜
• 页码范围: 462-472
• 分类号: S642.2
• 语种: 中文
• DOI: 10.16420/j.issn.0513-353x.2015-0808

摘要

为了探讨外源硫化氢(H2S)对黄瓜耐冷性的调控机理,以‘津优3号’黄瓜为试材,叶面喷施H2S供体硫氢化钠(NaHS),以清水处理为对照,研究H2S对温度变化的响应,以及对黄瓜叶片光合作用和抗氧化系统的影响.结果表明:随着日光温室内气温降低和低温持续时间的延长,黄瓜叶片的H2S含量及D-/L-半胱氨酸脱巯基酶(CDes)活性先升高,后降低;光合速率(Pn)、气孔导度(Gs)、蒸腾速率(Tr)、核酮糖-1,5-二磷酸羧化酶(RuBPCase)活性,以及暗下光系统Ⅱ最大光化学效率(Fv/Fm)、光下实际光化学效率(ΦPSⅡ)、电子传递效率(ETR)和光化学猝灭(qP)逐渐降低,胞间CO2浓度(Ci)、初始荧光(Fo)和非光化学猝灭(NPQ)趋于升高.低温胁迫可使MDA含量增加,超氧化物歧化酶(SOD)、过氧化物酶(POD)、过氧化氢酶(CAT)、抗坏血酸过氧化物酶(APX)和谷胱甘肽还原酶(GR)活性先升高后降低.与对照相比,NaHS处理叶片的H2S含量和CDes活性及Pn、Gs、Tr、RuBPCase活性、Fv/Fm、ΦPSⅡI、ETR和qP明显升高,Ci、Fo和NPQ显著降低.低温下NaHS处理的MDA含量显著低于对照,而SOD、POD、CAT、APX和GR活性明显高于对照.NaHS处理的黄瓜产量比对照增加15.3％.可见CDes催化合成H2S受低温胁迫诱导,外源H2S可增强活性氧清除能力,减轻低温对黄瓜叶片光合机构的伤害.