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高压IGBT表面钝化技术的研究进展
高压IGBT表面钝化技术的研究进展
作者:
刘江
吴迪
李立
王耀华
金锐
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
高压IGBT
表面钝化
可靠性
钝化材料
钝化方案
摘要:
高压功率半导体器件IGBT(绝缘栅双极晶体管)的表面钝化工艺是其芯片加工工艺的重要环节,其钝化层的质量直接影响IGBT器件的性能参数和长期可靠性。为了解决高压IGBT的表面钝化工艺问题,首先研究了功率半导体器件的钝化机理,随后调研了功率器件常用表面钝化材料的优缺点和国际上主流的高压功率器件表面钝化方案,分析总结出了适用于高压IGBT的表面钝化材料和表面钝化方案,最后指出了高压IGBT表面钝化技术的发展趋势和今后的研究方向。
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文献信息
篇名
高压IGBT表面钝化技术的研究进展
来源期刊
电子工艺技术
学科
工学
关键词
高压IGBT
表面钝化
可靠性
钝化材料
钝化方案
年,卷(期)
2016,(2)
所属期刊栏目
综述
研究方向
页码范围
67-70,98
页数
5页
分类号
TN305
字数
3754字
语种
中文
DOI
10.14176/j.issn.1001-3474.2016.02.002
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
金锐
11
77
5.0
8.0
2
李立
3
5
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2.0
3
刘江
5
27
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4
吴迪
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二级引证文献(2)
研究主题发展历程
节点文献
高压IGBT
表面钝化
可靠性
钝化材料
钝化方案
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子工艺技术
主办单位:
中国电子科技集团公司第二研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1001-3474
CN:
14-1136/TN
开本:
大16开
出版地:
太原市115信箱
邮发代号:
22-52
创刊时间:
1980
语种:
chi
出版文献量(篇)
2306
总下载数(次)
10
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