低温制备防潮耐真空污染二氧化硅减反膜

• 作者: 姚兰芳 沈军 牛彦彦 王晓栋 田冰涛
• 来源期刊: 低温物理学报
• 关键词: 溶胶-凝胶 减反膜 光学稳定性
• 年，卷（期）: 2016,（2）
• 页码范围: 135-138
• 页数: 4页
• 语种: 中文

摘要

采用溶胶-凝胶法,以正硅酸乙酯为前驱体,氨水为催化剂,通过六甲基二硅氮烷(HMDS)对溶胶改性,使用提拉法镀膜,并经过低温热处理制备了具有良好防潮抗真空性能的SiO2减反膜.对薄膜的防潮性能、水接触角、真空抗污染能力、结构等进行了测试表征.结果表明:掺HMDS的溶胶制备的二氧化硅膜层峰值透过率为99.7％;水接触角可达154°;在相对湿度大于90％的环境中保存7天和在二甲基硅油作为污染源的真空环境中放置30天,透过率仅分别下降0.05％和0.35％,防潮耐真空稳定性较未改性薄膜都得到极大提高.