氧化石墨烯还原过程中产生的缺陷表征

• 作者: 宋少先 彭伟军 王承二 胡宇
• 来源期刊: 炭素技术
• 学科: 化学
• 关键词: 氧化石墨烯 石墨烯 化学还原 缺陷
• 年，卷（期）: 2016,（3）
• 所属期刊栏目: 实验研究
• 页码范围: 12-15
• 分类号: O613.71|TB303
• 语种: 中文
• DOI: 10.14078/j.cnki.1001-3741.2016.03.003

摘要

采用Hummer法对鳞片石墨进行氧化得到氧化石墨,之后经过超声剥离制备氧化石墨烯,最后在水合肼的作用下还原制备石墨烯.采用红外光谱、紫外-可见光光谱、拉曼光谱和原子力显微镜对还原前后的氧化石墨烯进行表征.发现化学还原可以除去氧化石墨烯表面一部分含氧官能团,但同时也引入一些缺陷,还原之后石墨烯的sp2域的平均尺寸减小.AFM照片分析发现含氧官能团去除之后会在原来的位置产生空洞,从而导致石墨烯缺陷增加.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	彭伟军	武汉理工大学资源与环境工程学院	9	70	6.0	8.0
5	宋少先	武汉理工大学资源与环境工程学院	30	79	5.0	7.0
7	王承二	武汉理工大学资源与环境工程学院	4	17	2.0	4.0
8	胡宇	武汉理工大学资源与环境工程学院	3	15	2.0	3.0