AlN陶瓷的性能及应用

• 作者: 丁利文 吕文中 姚宜峰 李镜人 范桂芬
• 来源期刊: 现代技术陶瓷
• 学科: 工学
• 关键词: AlN陶瓷 制备工艺 热导率
• 年，卷（期）: 2016,（1）
• 所属期刊栏目: 综合评述
• 页码范围: 22-33
• 页数: 12页
• 分类号: TB34
• 字数: 8123字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16253/j.cnki.37-1226/tq.2016.01.003

摘要

AlN陶瓷具有高硬度、与硅相接近的线膨胀系数、高电阻率、低介电常数、低介电损耗以及无毒、耐高温、耐腐蚀等特性,力学性能良好,在电子、机械、复合材料等领域有着广泛的应用.尤其是因为具有高热导率,AlN陶瓷已经成为理想的半导体基板和封装材料之一.本文回顾了AlN陶瓷的发展历程,着重评述了AlN陶瓷的制备技术、性能及应用等方面的研究进展,并对其面临的技术困难及发展方向进行了展望.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吕文中	华中科技大学光学与电子信息学院	87	901	15.0	26.0
2	李镜人	华中科技大学光学与电子信息学院	4	42	3.0	4.0
3	范桂芬	华中科技大学光学与电子信息学院	18	74	5.0	8.0
4	丁利文	华中科技大学光学与电子信息学院	1	9	1.0	1.0
5	姚宜峰	华中科技大学光学与电子信息学院	1	9	1.0	1.0