退火处理对 MgO 薄膜性能的影响?

• 作者: 刘胜利 张骏 王海云 程杰
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: MgO薄膜 退火处理 光学特性 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2016,（4）
• 页码范围: 61-64,80
• 页数: 5页
• 分类号: TQ174
• 字数: 2730字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11896/j.issn.1005-023X.2016.04.015

摘要

采用磁控溅射法在石英衬底上制备了 MgO 薄膜并分别在不同温度下进行退火处理。利用 X 射线衍射仪(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)研究了 MgO 薄膜的结构和表面形貌随退火温度的变化，发现退火可以改善薄膜的结晶质量，即随着退火温度的升高，晶粒尺寸逐渐增大，结晶性能更佳，表面更加平整。此外，通过紫外-可见光分光光度计研究了 MgO 薄膜光学特性的变化，发现随着薄膜退火温度的升高，可见光透射率下降，光学带隙值逐渐减小。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张骏	南京邮电大学电子科学与工程学院	10	25	3.0	5.0
3	王海云	南京大学苏州高新技术研究院	15	35	4.0	4.0
5	刘胜利	南京大学苏州高新技术研究院	6	28	3.0	5.0
7	程杰	南京邮电大学理学院先进功能陶瓷研究中心	10	19	3.0	3.0