[CrAlSiN/Si3N4]n多层膜的性能和抗氧化行为的研究

• 作者: 刘小龙 张魁 彭栋梁 王来森
• 来源期刊: 金属功能材料
• 关键词: [CrAlSiN/Si3N4]n多层膜 硬质涂层 磁控溅射 力学性能 抗氧化性能
• 年，卷（期）: 2016,（4）
• 页码范围: 17-23
• 页数: 7页
• 语种: 中文
• DOI: 10.13228/j.boyuan.issn1005-8192.2016027

摘要

采用反应溅射的方法制备了一系列不同CrAlSiN层厚度的[(CrAlSiN)d/(Si3N4)0.33nm]n多层膜,并系统研究了CrAlSiN层厚度对其结构、形貌、力学性能和抗氧化行为的影响.研究表明,当CrAlSiN层厚度为3.2 nm时,[(CrAlSiN)d/(Si3N4)0.33nm]n纳米多层膜具有最优异的力学性能,此时硬度高达34 GPa.随后在空气气氛下用高温管式炉对[(CrAlSiN)d/(Si3N4)0.33.]n多层膜进行氧化实验,氧化温度为700、800、900℃,保温时间2h.实验结果表明,800℃氧化处理后,多层膜仍能保持28.5 GPa的硬度值,显示出优秀的抗氧化能力.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	彭栋梁		12	18	2.0	3.0
2	王来森		5	4	1.0	1.0
3	刘小龙		1	0	0.0	0.0
4	张魁		1	0	0.0	0.0