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摘要:
为制作高质量的铋吸收光栅以提高X射线微分相衬成像系统性能,针对表面改性环节对微铸造技术进行改进,以Bi2O3取代SiO2作为改进的浸润层.在周期为3μm、深度为150 μm的分析光栅结构上制作了具有高填充率的分析光栅,获得了该光栅的扫描电子显微镜照片.为进一步表明改进微铸造技术制作分析光栅的优越性,与改进前的分析光栅进行对比.将两种光栅先后置于X射线微分干涉相衬成像系统中,分别获取了系统莫尔条纹.从最终的条纹对比度上判断,改进后的微铸造技术制作的分析光栅填充率明显提高.
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文献信息
篇名 X射线微分相衬成像系统莫尔条纹对比度的改善
来源期刊 深圳大学学报(理工版) 学科 化学
关键词 光学工程 X射线 相衬 吸收光栅 微铸造 莫尔条纹
年,卷(期) 2016,(5) 所属期刊栏目 光电工程
研究方向 页码范围 506-510
页数 5页 分类号 O434.19|O647.5
字数 621字 语种 中文
DOI 10.3724/SP.J.1249.2016.05506
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研究主题发展历程
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光学工程
X射线
相衬
吸收光栅
微铸造
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深圳大学学报(理工版)
双月刊
1000-2618
44-1401/N
大16开
深圳市南山区深圳大学行政楼419室
46-206
1984
chi
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