包含等离子体辅助沉积参数和离子刻蚀作用过程的结构区域相图

• 作者: André Anders
• 来源期刊: 中国表面工程
• 学科: 工学
• 关键词: 结构区域相图 薄膜制备 等离子体辅助 离子刻蚀 应力 形貌 同系温度 位能与动能
• 年，卷（期）: 2016,（1）
• 所属期刊栏目: 境外论文
• 页码范围: 1-6
• 分类号: TG174.44
• 语种: 中文
• DOI: 10.11933/j.issn.1007-9289.2016.01.001

摘要

文中提出一种扩展的薄膜微观结构的区域相图,可以用其来表征过滤阴极弧以及高功率脉冲磁控溅射镀膜过程中含有大量离子流的动态沉积过程.其坐标轴包括广义同系温度,标量化动能以及可以表征离子刻蚀作用的净膜厚.需要强调的是,由于影响薄膜生长的实际参数要远超相图中有限的坐标轴数,因此该结构区域相图展示的生长条件与薄膜结构之间的关系是近似和简化过的.