溅射气压对铟锡锌氧化物薄膜晶体管性能的影响

• 作者: 刘媛媛 宋淑梅 李延辉 杨田林 赵继凤 辛艳青
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 溅射气压 铟锡锌氧化物薄膜晶体管 磁控溅射 光学带隙
• 年，卷（期）: 2016,（4）
• 所属期刊栏目: 功能薄膜
• 页码范围: 391-396
• 分类号: TN321+.5
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjovst.2016.04.03

摘要

利用射频磁控溅射技术,在不同溅射气压下制备了铟锡锌氧化物薄膜晶体管(ITZO TFT),分析了ITZO TFT电学性能随气压的变化规律.研究结果表明:非晶ITZO TFT的工作模式均为耗尽型;随着气压的增大,亚阈值摆幅及阈值电压先减小后增大、场效应迁移率逐渐减小,这是由载流子浓度和界面缺陷密度两方面因素共同决定的.溅射气压为0.4 Pa时,ITZO TFT综合性能最好,场效应迁移率高达24.32 cm2/V·s,亚阈值摆幅为1.10 V/decade,电流开关比达到106.此外,ITZO有源层在可见光范围内的平均透过率超过80％,光学带隙值在3.2～3.4 eV之间,随气压的升高先减小后增大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨田林	山东大学空间科学与物理学院	16	117	5.0	10.0
2	李延辉	山东大学空间科学与物理学院	9	32	4.0	5.0
3	宋淑梅	山东大学空间科学与物理学院	15	40	4.0	6.0
4	赵继凤	山东大学空间科学与物理学院	3	6	2.0	2.0
5	刘媛媛	山东大学空间科学与物理学院	7	12	2.0	3.0
6	辛艳青	山东大学空间科学与物理学院	10	32	4.0	5.0