液相外延制备的InAs0.94Sb0.06薄膜的光学性质

• 作者: 俞国林 吕英飞 周炜 戴宁 王洋 胡淑红
• 来源期刊: 红外与毫米波学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 液相外延 铟砷锑薄膜 红外椭偏 光学性质
• 年，卷（期）: 2016,（1）
• 页码范围: 42-46,128
• 页数: 6页
• 分类号: O472+.3
• 字数: 3194字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11972/j.issn.1001-9014.2016.01.008

摘要

采用液相外延方法在InAs衬底上制备了InAs0.94Sb0.06外延薄膜.分别通过高分辨率X射线衍射谱和扫描电子显微镜测试对样品的结构特性和截面形貌进行表征分析,外延薄膜的晶体质量较好.利用样品在3000～6000nm波段内的椭圆偏振光谱,结合介电函数模型,拟合得到了室温下InAs衬底和InAs0.94Sb0.06薄膜位于禁带位置附近的的折射率和消光系数光谱.由禁带位置附近的折射率能量增强效应确定InAs0.94Sb0.06薄膜的禁带宽度为0.308eV.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王洋	中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室	256	5097	36.0	57.0
2	戴宁	中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室	55	315	11.0	15.0
3	周炜	中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室	18	115	6.0	10.0
4	吕英飞	中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室	1	0	0.0	0.0
5	俞国林	中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室	3	0	0.0	0.0
6	胡淑红	中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室	10	49	4.0	7.0