甲基橙在聚吡咯/纳米SiO2复合材料上的氧化性能

• 作者: 吴小华 周丽娜 康秋红 胡西新
• 来源期刊: 浙江师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 生物学
• 关键词: 甲基橙 聚吡咯 氧化 二氧化硅 紫外-可见光谱法
• 年，卷（期）: 2016,（4）
• 所属期刊栏目: 化学
• 页码范围: 419-422
• 页数: 4页
• 分类号: Q657.32
• 字数: 2970字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16218/j.issn.1001-5051.2016.04.010

摘要

采用紫外-可见光谱法研究了甲基橙在聚吡咯/纳米SiO2复合材料(PPy/n-SiO2)上的氧化性能.结果表明:在弱酸性介质中,PPy/n-SiO2对甲基橙的氧化性能明显优于聚吡咯;反应5～40 min时,甲基橙氧化反应符合表观一级反应动力学;反应60 min时,甲基橙的降解率可达到94.7％;PPy/n-SiO2经二次回收再生后,反应60 min时甲基橙降解率为96.5％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴小华	浙江师范大学化学与生命科学学院	40	191	7.0	10.0
2	胡西新	浙江师范大学化学与生命科学学院	1	0	0.0	0.0
3	周丽娜	浙江师范大学化学与生命科学学院	2	1	1.0	1.0
4	康秋红	浙江师范大学化学与生命科学学院	2	9	1.0	2.0