电荷耦合器件中子辐照诱发的位移效应

• 作者: 文林 李豫东 汪朝敏 汪波 郭旗
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 工学
• 关键词: 电荷耦合器件 中子辐照 位移效应 电荷转移效率 暗信号
• 年，卷（期）: 2016,（1）
• 所属期刊栏目: 器件制备及器件物理
• 页码范围: 44-49
• 页数: 6页
• 分类号: TN386.5
• 字数: 3640字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/fgxb20163701.0044

摘要

为研究电荷耦合器件空间辐照效应、参数退化机理,对国产64×64像元电荷耦合器件进行了中子辐照位移损伤效应研究.样品在中子辐照下,暗信号、暗信号非均匀性和电荷转移效率等关键性能参数退化显著.研究结果表明:暗信号的退化是由于中子辐照产生的体缺陷能级在耗尽层中充当复合-产生中心,增大了热载流子的产生率所致,而各像素单元暗信号退化的不一致性使暗信号非均匀性增大;电荷转移效率显著减小则是由于中子辐照在转移沟道中产生的体缺陷不断捕获、发射电子所引起.在整个实验过程中,饱和输出电压的退化可以忽略不计,表现出较好的抗位移损伤能力.