电弧离子镀TiN/Ti纳米多层膜的力学性能

• 作者: 张臣 王宇 程芳 陈泽昊 黄美东
• 来源期刊: 真空
• 学科: 物理学
• 关键词: 电弧离子镀 TiN/Ti多层膜 调制周期
• 年，卷（期）: 2016,（1）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 8-11
• 分类号: O484.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.13385/j.cnki.vacuum.2016.01.02

摘要

采用多弧离子镀技术,在不同沉积参数下合成具有纳米调制周期的TiN/Ti多层膜.利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、XP-2台阶仪、XP型纳米压痕仪、X射线能谱仪(EDS)研究了调制周期对TiN/Ti纳米多层膜微观结构、表面形貌以及力学性能的影响.结果表明,膜层由TiN和Ti交替组成,不存在其它杂相,且TiN薄膜以面心立方结构沿(111)密排面择优生长;TiN/Ti多层膜外观致密、平滑、颜色均匀金黄,随着调制周期的减小,薄膜表面大颗粒数量和尺寸均减小,且氮含量逐渐升高,膜层硬度呈现出增大的趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄美东	天津师范大学物理与材料科学学院	56	185	7.0	10.0
2	陈泽昊	天津师范大学物理与材料科学学院	6	14	2.0	3.0
3	王宇	天津师范大学物理与材料科学学院	15	33	3.0	5.0
4	张臣	天津师范大学物理与材料科学学院	5	13	2.0	3.0
5	程芳	天津师范大学物理与材料科学学院	4	25	3.0	4.0