CVD法制备硅硼碳氮陶瓷的化学反应热力学研究

• 作者: 任海涛 刘家臣 郭安然
• 来源期刊: 现代技术陶瓷
• 学科: 化学
• 关键词: 硅硼碳氮陶瓷 CVD 热力学计算
• 年，卷（期）: 2016,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 290-295
• 页数: 6页
• 分类号: O642
• 字数: 2454字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16253/j.cnki.37-1226/tq.2016.06.006

摘要

本文针对制备SiBCN 陶瓷所用的SiCl3CH3–BCl3–NH3–H2体系，基于已建立的热化学数据库，根据化学平衡原理，确定了不同工艺参数下各反应体系中一些重要产物的平衡产量分布，给出了相应体系的固相产物分布规律，为实验研究提供可靠的理论参考。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘家臣	天津大学先进陶瓷加工技术教育部重点实验室	65	504	15.0	19.0
2	任海涛	天津大学先进陶瓷加工技术教育部重点实验室	6	1	1.0	1.0
6	郭安然	天津大学先进陶瓷加工技术教育部重点实验室	6	6	1.0	2.0