Mo 离子注入对纯铜表面纳米层稳定性的影响

• 作者: 张淇萱 易健宏 朱心昆 李才巨 王刚 谭军 郗旸
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: 表面机械研磨处理 离子注入 表面纳米层 微观结构 硬度
• 年，卷（期）: 2016,（8）
• 所属期刊栏目: 材料与工艺
• 页码范围: 40-45
• 页数: 6页
• 分类号: TG146.1|TG113
• 语种: 中文
• DOI: 10.11868/j.issn.1001-4381.2016.08.007

摘要

采用表面机械研磨处理（SMAT）对纯铜进行表面改性，通过金属蒸汽真空弧离子注入技术在纳米表层注入Mo离子。利用光学显微镜（OM）、X射线衍射分析仪（XRD）和扫描电镜（SEM）观察SMAT处理效果，表面存在纳米层和变形层，通过原子力显微镜（AFM）表征纳米层的晶粒尺寸。结果表明：晶粒尺寸得到了显著的抑制，表面纳米层的晶粒在退火后长大到163nm，而注入了Mo离子的只长大到72nm。此外，SMAT并离子注入后材料表面的硬度仅达到SMAT试样的3．5倍，是纯Cu基体硬度的7倍左右。Mo离子的分散和由SMAT及离子注入引入晶体缺陷的反应促使了这些优化现象的产生。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王刚	上海大学微观结构实验室	28	76	5.0	8.0
2	朱心昆	昆明理工大学材料科学与工程学院	69	513	13.0	19.0
3	李才巨	昆明理工大学材料科学与工程学院	24	199	9.0	13.0
4	易健宏	昆明理工大学材料科学与工程学院	68	279	9.0	13.0
5	谭军	昆明理工大学材料科学与工程学院	5	7	2.0	2.0
6	郗旸	昆明理工大学材料科学与工程学院	2	12	2.0	2.0
7	张淇萱	昆明理工大学材料科学与工程学院	3	12	2.0	3.0