原文服务方: 电工材料       
摘要:
利用直流反应磁控溅射法制备了厚度约100 nm成分单一的Fe3O4薄膜.对薄膜样品进行XRD测试,研究了不同缓冲层对薄膜结构的影响.结果表明:Fe3O4薄膜沉积在缓冲层上时,薄膜的各衍射峰与Fe3O4的尖晶石结构的衍射峰相似,以(311)峰为主峰;对薄膜表面的AFM测试结果表明引入缓冲层使得薄膜晶粒分布均匀,表面平整度较好,且可以有效地降低薄膜表面粗糙度,在La2/3Ca1/3MnO3上沉积时均方根粗糙度最小(RMS=1.47 nm);通过对Fe3O4薄膜磁电阻效应的测试,发现引入缓冲层的Fe3O4薄膜均呈现负磁电阻效应,电阻变化率对外加磁场的灵敏度减小;由于引入缓冲层后薄膜的晶体结构发生改变,增加了磁畴壁的移动阻力,薄膜的矫顽力和剩磁提高.
推荐文章
半金属Fe3O4薄膜的制备工艺探索
半金属材料
自旋电子材料
Fe3O4薄膜
Fe3O4磁性纳米颗粒的制备及性能表征
Fe3O4磁性纳米颗粒
化学共沉淀法
反应温度
磁性能
PLD生长Fe3O4薄膜的微结构及磁性能研究
无机非金属材料
Fe3O4薄膜
脉冲激光沉积
喇曼光谱
磁性能
Fe3O4磁性颗粒对聚砜超滤膜性能的影响
PS-Fe3Q超滤膜
磁强测量系统
扫描电镜
超顺磁性
截留率
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 缓冲层对Fe3O4薄膜的结构与电磁性能影响
来源期刊 电工材料 学科
关键词 Fe3O4薄膜 缓冲层 巨磁电阻效应 电磁性能
年,卷(期) 2016,(3) 所属期刊栏目 研究·分析
研究方向 页码范围 15-19
页数 5页 分类号 TM271
字数 语种 中文
DOI 10.16786/j.cnki.1671-8887.eem.2016.03.004
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 成钢 桂林电子科技大学材料科学与工程学院 49 121 5.0 9.0
5 李林 桂林电子科技大学材料科学与工程学院 39 98 5.0 8.0
7 张艳丽 桂林电子科技大学材料科学与工程学院 8 20 3.0 4.0
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (2)
共引文献  (5)
参考文献  (14)
节点文献
引证文献  (0)
同被引文献  (0)
二级引证文献  (0)
1990(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
1991(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
1992(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
1995(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1999(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2000(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
2002(4)
  • 参考文献(4)
  • 二级参考文献(0)
2003(3)
  • 参考文献(3)
  • 二级参考文献(0)
2006(2)
  • 参考文献(2)
  • 二级参考文献(0)
2010(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2016(0)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
Fe3O4薄膜
缓冲层
巨磁电阻效应
电磁性能
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电工材料
双月刊
1671-8887
45-1288/TG
大16开
1973-01-01
chi
出版文献量(篇)
1336
总下载数(次)
0
总被引数(次)
5113
论文1v1指导