不同硅烷修饰的MFI分子筛膜及其H2/CO2分离性能

• 作者: 张春 洪周 陈冬冬 顾学红
• 来源期刊: 膜科学与技术
• 学科: 工学
• 关键词: MFI分子筛膜 硅烷 CVD H2/CO2分离
• 年，卷（期）: 2016,（1）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 1-6
• 页数: 6页
• 分类号: TQ028.8
• 字数: 3713字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16159/j.cnki.issn1007-8924.2016.01.001

摘要

通过NH4+离子交换的方法获得了HMFI分子筛膜,采用在线化学气相沉积法(CVD)对其进行晶内孔道修饰,以提高其对H2的分离选择性.实验考察了四乙氧基硅烷(TEOS)、甲基二乙氧基硅烷(MDES)和三甲基乙氧基硅烷(TMES)3种不同尺寸修饰源对膜性能的影响.结果表明,尺寸较小的TMES更容易扩散进入分子筛膜的晶内孔道,从而获得了更优的H2/CO2分离性能,修饰后的膜在500℃下H2/CO2的分离因子可迭45.9,H2的渗透性为1.43×10-7 mol/(m2·s·Pa).同时,通过质谱(MS)分析了TMES在HMFI分子筛孔道中的裂解行为,探讨了硅烷修饰的的沉积机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	顾学红	南京工业大学化学化工学院材料化学工程国家重点实验室	29	85	5.0	7.0
2	洪周	南京工业大学化学化工学院材料化学工程国家重点实验室	7	14	3.0	3.0
3	张春	南京工业大学化学化工学院材料化学工程国家重点实验室	14	28	4.0	4.0
4	陈冬冬	南京工业大学化学化工学院材料化学工程国家重点实验室	1	5	1.0	1.0