钯–硅(Pd-Si)薄膜表面偏析研究

• 作者: 姜国利 杨士栋 王江涌 邹永恒 陈煜 黄立豪
• 来源期刊: 材料科学
• 学科: 工学
• 关键词: 表面偏析 修正的Darken模型 尺寸效应 Pd-Si薄膜 Pd-Si二元合金
• 年，卷（期）: 2016,（6）
• 页码范围: 334-345
• 页数: 12页
• 分类号: TG14

摘要

本文应用修正的Darken模型,结合考虑薄膜尺寸效应的约束条件,对PdSi、Pd2Si、Pd3Si、Pd9Si2、Pd5Si合金薄膜的平衡态及动态表面偏析进行了模拟计算,其中,偏析参数,即偏析能ΔG和相互作用系数Ω,分别由Miedema模型和相图计算方法获得。结果表明:尺寸效应对Pd-Si合金薄膜体系偏析的影响不是很明显。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈煜	汕头大学物理系	9	22	3.0	4.0
2	王江涌	汕头大学物理系	22	34	3.0	4.0
3	姜国利	汕头大学物理系	3	2	1.0	1.0
4	黄立豪	汕头大学物理系	1	0	0.0	0.0
5	杨士栋	汕头大学物理系	1	0	0.0	0.0
6	邹永恒	汕头大学物理系	2	0	0.0	0.0