基于紫外固化胶/PMMA双层胶转印技术的微纳结构制作

• 作者: 王旭迪 郑丁杰 陶伟 魏本猛
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 紫外固化胶/PMMA 转印技术 金属线阵 粘附能 刻蚀速率
• 年，卷（期）: 2016,（3）
• 所属期刊栏目: 真空应用
• 页码范围: 66-69
• 分类号: TB79
• 语种: 中文
• DOI: 10.13385/j.cnki.vacuum.2016.03.15

摘要

本文基于聚二甲基硅氧烷(PDMS)微结构图章的转印技术将紫外固化胶图形转移到PMMA基底上,形成紫外固化胶/PMMA双层胶结构,用等离子刻蚀(RIE)后,得到具有内切结构的光刻胶掩膜,镀金属膜并去胶获得周期性微纳结构.由于界面间粘附能的差异,紫外固化胶图形可以在无粘附剂辅助下成功转移到PMMA基底上.比较PMMA和这种紫外固化胶在氧气等离子中的刻蚀速率,表明紫外固化胶在氧气等离子体中具有高抗刻蚀性,有利于底层的PMMA形成去胶所需的内切结构.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王旭迪	合肥工业大学机汽学院真空与过装系	40	192	9.0	12.0
2	陶伟	合肥工业大学机汽学院真空与过装系	7	21	4.0	4.0
3	魏本猛	合肥工业大学机汽学院真空与过装系	4	6	1.0	2.0
4	郑丁杰	合肥工业大学机汽学院真空与过装系	2	2	1.0	1.0