反应温度对卤素刻蚀法制备碳化物衍生碳涂层的影响

• 作者: 李文虎 罗清威 艾桃桃 邹祥宇
• 来源期刊: 材料与冶金学报
• 学科: 工学
• 关键词: 碳化物衍生碳 反应温度 摩擦学性能
• 年，卷（期）: 2016,（3）
• 所属期刊栏目: 材料制备
• 页码范围: 205-208
• 页数: 4页
• 分类号: TB232
• 字数: 2839字
• 语种: 中文
• DOI: 10.14186/j.cnki.1671-6620.2016.03.009

摘要

近些年来，碳化物衍生碳以其独特的性能被广泛应用在气体存储、超级电容器、催化剂载体和摩擦涂层等方面。卤化法以成本低、制备工艺简单等特点成为制备衍生碳涂层的热点。本文以SiC陶瓷基体为前驱体，通过高温氯化处理工艺在 SiC表面制备碳化物衍生碳涂层，并研究了反应温度与其摩擦学性能之间的关系。研究结果表明：在1175℃下保温2 h所制备的SiC-CDC涂层表面光滑平整、硬度最高、且与基体的结合强度最好。此时SiC-CDC涂层的干摩擦系数最小，耐磨性最强，具有良好的摩擦学性能。氯气刻蚀反应制备SiC-CDC涂层可为工业上应用衍生碳涂层提供理论和技术支持。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李文虎	陕西理工大学材料科学与工程学院	63	245	9.0	12.0
2	艾桃桃	陕西理工大学材料科学与工程学院	95	388	10.0	13.0
3	邹祥宇	陕西理工大学材料科学与工程学院	20	15	2.0	3.0
4	罗清威	陕西理工大学材料科学与工程学院	19	16	2.0	3.0