Cr掺杂CuAlO2陶瓷电学性能的研究

• 作者: 侯育冬 朱满康 王影 程蕾 赵军 马丙闯
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: CuAlO2 阻抗谱 XPS 霍尔效应
• 年，卷（期）: 2016,（7）
• 页码范围: 1746-1750
• 页数: 5页
• 分类号: TM283
• 字数: 2835字
• 语种: 中文

摘要

采用固相合成法制备CuAl1-xCrxO2陶瓷.通过XRD、XPS、电学阻抗谱和Hall效应等测试方法对陶瓷的物相结构、元素价态、电学性能等进行了研究.结果表明:所制备的样品的主要相组成是CuAlO2和Cu2O,同时,也有少量Cu2+存在.样品的电导率随Cr掺量的增加显示先增加(x=0～0.02)后减小(x=0.02 ～0.05)的趋势,其影响因素包括Cu离子价态和载流子迁移率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱满康	北京工业大学材料科学与工程学院	73	372	11.0	15.0
2	侯育冬	北京工业大学材料科学与工程学院	49	195	9.0	11.0
3	赵军		6	8	2.0	2.0
4	程蕾		2	1	1.0	1.0
5	马丙闯	北京工业大学材料科学与工程学院	2	1	1.0	1.0
6	王影	北京工业大学材料科学与工程学院	2	7	1.0	2.0