面曝光快速成形系统掩模图形的优化研究

• 作者: 巨孔亮 秦绍辉 胥光申 陈振
• 来源期刊: 机电一体化
• 关键词: 快速成形 面曝光 掩模图形 灰度变换处理
• 年，卷（期）: 2016,（1）
• 所属期刊栏目: 研究·开发
• 页码范围: 23-28
• 语种: 中文
• DOI: 10.16413/j.cnki.issn.1007-080x.2016.01.005

摘要

为了提高面曝光快速成形系统的制作分辨率,制作出具有细微结构特征的小尺寸零件,提出了一种基于灰度变换处理的掩模图形优化方法.通过研究光照强度分布影响细微结构制作的机制,建立了掩模图形优化模型;采用几何启发式算法,在VC ++6.0环境下进行位图灰度变换处理,改变了曝光平面的光照强度分布.试验得到掩模图形优化后的零件,其轮廓更加清晰、光滑,表明了该系统具备较高的制作分辨率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胥光申	西安工程大学机电工程学院	68	372	10.0	15.0
2	巨孔亮	西安工程大学机电工程学院	15	70	6.0	7.0
3	陈振	西安工程大学机电工程学院	7	28	4.0	5.0
4	秦绍辉	西安工程大学机电工程学院	3	17	3.0	3.0