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EDXRF法测定V-Ta合金中Ta含量
EDXRF法测定V-Ta合金中Ta含量
作者:
余春荣
刘露
王雯
肖吉群
赵建龙
高戈
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
V-Ta合金
EDXRF法
Ta含量
摘要:
为适应新型合金材料( V -Ta 合金)研制的需要,建立了用能量色散 X 射线荧光光谱( EDXRF)法测定V-Ta合金中Ta含量的分析方法。该方法将溶解的V-Ta合金切屑样制成滤纸片试样,用能量色散X射线荧光光谱仪测定其Ta含量。该方法简便、快速,测定Ta含量在25%~40%范围内的样品时,其测量结果的相对标准偏差(n=6)不大于1%。
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文献信息
篇名
EDXRF法测定V-Ta合金中Ta含量
来源期刊
核电子学与探测技术
学科
工学
关键词
V-Ta合金
EDXRF法
Ta含量
年,卷(期)
2016,(7)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
710-713
页数
4页
分类号
TB3
字数
2489字
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
高戈
中国工程物理研究院材料研究所
12
28
4.0
4.0
2
余春荣
中国工程物理研究院材料研究所
19
13
2.0
2.0
3
肖吉群
中国工程物理研究院材料研究所
12
17
2.0
3.0
4
刘露
中国工程物理研究院材料研究所
1
1
1.0
1.0
5
赵建龙
中国工程物理研究院材料研究所
3
1
1.0
1.0
6
王雯
中国工程物理研究院材料研究所
4
6
1.0
2.0
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EDXRF法
Ta含量
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
核电子学与探测技术
主办单位:
中核(北京)核仪器厂
出版周期:
双月刊
ISSN:
0258-0934
CN:
11-2016/TL
开本:
大16开
出版地:
北京市经济技术开发区宏达南路3号
邮发代号:
创刊时间:
1981
语种:
chi
出版文献量(篇)
5579
总下载数(次)
9
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