氮流量对热丝制备富硅-氮化硅薄膜的结构及性质影响

• 作者: 乌仁图雅 周炳卿 张林睿 高爱明
• 来源期刊: 信息记录材料
• 学科: 工学
• 关键词: 热丝化学气相沉淀法 富硅-氮化硅 微结构 发光特性
• 年，卷（期）: 2016,（1）
• 所属期刊栏目: 材料·工程
• 页码范围: 53-58
• 页数: 6页
• 分类号: TQ12
• 字数: 4271字
• 语种: 中文

摘要

采用热丝化学气相沉积法,以SiH4、NH3、N2作为反应气源,通过改变氮气流量来制备富硅-氮化硅薄膜材料.通过傅里叶红外变换谱、紫外-可见光吸收谱、光致发光谱、扫描电镜分别对薄膜的结构、带隙宽度、发光特性及表面形貌进行表征与分析.实验结果表明,随着氮气流量增加,薄膜中N原子含量减少,镶嵌在氮化硅母质中的硅团簇增大,Si-N键的键密度逐渐减少,薄膜的光学带隙Eg和带尾能EU呈现减小的趋势,薄膜有序度增加,且由氮悬挂键所引起的缺陷态发光峰增强.当氮气流量为30sccm时,Si-N键的非对称伸缩模式和Si-H键伸缩振动模发生了蓝移,当[N2]/[NH3]流量比小于5:1时,氮气流量对薄膜中氮含量的影响非常明显,适当地降低氮流量有利于制备出富硅-氮化硅薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	乌仁图雅	内蒙古师范大学物理与电子信息学院功能材料物理与化学自治区重点实验室	18	56	4.0	7.0
2	周炳卿	内蒙古师范大学物理与电子信息学院功能材料物理与化学自治区重点实验室	45	134	6.0	8.0
3	张林睿	内蒙古师范大学物理与电子信息学院功能材料物理与化学自治区重点实验室	16	48	4.0	5.0
4	高爱明	内蒙古师范大学物理与电子信息学院功能材料物理与化学自治区重点实验室	5	10	2.0	3.0