氧气流量和溅射功率对脉冲直流磁控溅射制备Nb2O5薄膜性能的影响

• 作者: 彭寿 李刚 蒋继文 钟汝梅
• 来源期刊: 玻璃
• 学科: 工学
• 关键词: 氧化铌 脉冲直流磁控溅射 氧气流量 溅射功率
• 年，卷（期）: 2016,（2）
• 所属期刊栏目: 研究与综论
• 页码范围: 3-12
• 页数: 10页
• 分类号: TQ171
• 字数: 4830字
• 语种: 中文

摘要

采用非对称双极性脉冲直流磁控溅射系统在玻璃衬底上制备了Nb205薄膜,重点研究了02流量和溅射功率对薄膜结构、成分、形貌和光学性能的影响.XRD结果表明:所有制备的薄膜均为非晶结构;XPS用于分析不同02流量下沉积的薄膜表面Nb的化学状态,O2流量达到4.0 sccm以上才能得到满足化学计量比的Nb205薄膜;AFM结果显示:随着02流量的增加,薄膜表面更加平滑、均匀,而溅射功率为80 W时所制备的Nb2O5薄膜表现出最大的表面粗糙度大约为1.59 nm;光学结果表明,随着O2流量增加,可见光区的平均光学透过率逐渐增大,但溅射功率超过40W,溅射功率对薄膜可见光区的透过率影响很小;此外,通过改变02流量和溅射功率,可以很好地调节薄膜的折射率,从而更加便于消影玻璃中光学介质膜系的设计与生长.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李刚		3	1	1.0	1.0
3	彭寿		7	66	4.0	7.0
4	钟汝梅		2	1	1.0	1.0
7	蒋继文		1	1	1.0	1.0