分子印迹聚合物的应用及辐射合成研究进展

• 作者: 周成飞
• 来源期刊: 合成技术及应用
• 学科: 工学
• 关键词: 分子印迹聚合物 辐射技术 射线辐射 光辐射 微波辐射
• 年，卷（期）: 2016,（3）
• 所属期刊栏目: 专题论述
• 页码范围: 11-15
• 页数: 5页
• 分类号: TQ31
• 字数: 5592字
• 语种: 中文

摘要

分子印迹聚合物是分子印迹技术与聚合物膜技术相结合而发展起来的一种新型聚合物材料,不管是应用方面,还是合成上都取得了很大进展.本文主要介绍了分子印迹聚合物在分析检测、分离萃取等方面的应用,并着重综述了射线辐射法、光辐射法及微波辐射法制备分子印迹聚合物的研究进展.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周成飞	北京市射线应用研究中心辐射新材料北京市重点实验室	93	424	13.0	17.0