缓冲层对溶胶凝胶制备ZnO∶ Sn薄膜性能的影响

• 作者: 胡克艳 胡跃辉 范建彬 陈义川
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 溶胶凝胶 Sn掺杂ZnO薄膜 缓冲层 光电性能
• 年，卷（期）: 2016,（2）
• 页码范围: 558-562
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 3246字
• 语种: 中文

摘要

采用溶胶凝胶旋涂法,在石英衬底上引入缓冲层制备ZnO∶Sn薄膜.利用四探针电阻率测试仪、X射线衍射仪(XRD)、光致发光(PL)谱仪、场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)等测试手段对薄膜的微观结构和光电性能进行表征.结果表明:所制样品均呈现六角纤锌矿晶体结构并沿C轴择优生长,薄膜的结晶质量和光电性能达到改善,适当厚度的缓冲层可以有效缓解薄膜和衬底间的晶格失配.随着缓冲层厚度的增加,薄膜的电导率以及在可见光范围的透过率先增大后减小.制备两层缓冲层薄膜性能最优,电阻率达到9.5×10-3 Ω·cm,可见光波段的平均透过率为91％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡跃辉	景德镇陶瓷学院机械电子工程学院	54	127	6.0	8.0
2	陈义川	景德镇陶瓷学院机械电子工程学院	38	96	6.0	7.0
3	胡克艳	景德镇陶瓷学院机械电子工程学院	17	38	4.0	5.0
4	范建彬	景德镇陶瓷学院机械电子工程学院	4	4	2.0	2.0