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摘要:
磁控溅射颗粒表面涂层技术相对于流化床CVD工艺来说,在安全、环保、杂质含量控制方面具有较大优势.本文分析了磁控溅射颗粒涂层技术的基本原理、面临的问题与挑战,介绍了国内外磁控溅射颗粒涂层技术的发展现状,为颗粒物料表面磁控溅射涂层技术研究提供参考.
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文献信息
篇名 磁控溅射技术在微小颗粒表面涂层中的应用
来源期刊 真空 学科 工学
关键词 微小颗粒 磁控溅射 涂层
年,卷(期) 2016,(4) 所属期刊栏目 薄膜
研究方向 页码范围 6-10
页数 分类号 TB43
字数 语种 中文
DOI 10.13385/j.cnki.vacuum.2016.04.02
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 杨静 29 120 6.0 10.0
2 李圆圆 12 29 3.0 5.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
微小颗粒
磁控溅射
涂层
研究起点
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相关学者/机构
期刊影响力
真空
双月刊
1002-0322
21-1174/TB
大16开
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
8-30
1964
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