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摘要:
采用中频磁控溅射离子镀技术在贫铀表面以不同脉冲偏压制备了铝镀层,利用X射线衍射仪和扫描电镜对镀层的组织结构进行了表征,利用扫描电镜与俄歇电子能谱仪对镀层与基体的界面特性进行了研究.结果表明:铝镀层为面心立方结构;镀层平整、致密,与基体结合良好且具有“伪扩散层”;偏压对镀层的组织结构影响显著,随着偏压的升高,镀层在(200)(220)晶面生长增强;在低偏压时镀层呈板块状结构,随着偏压的升高,镀层向柱状结构转化.
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文献信息
篇名 铀表面中频磁控溅射离子镀铝的组织结构与界面特性研究
来源期刊 真空 学科 工学
关键词 贫铀 铝镀层 中频磁控溅射离子镀 组织结构 界面特性
年,卷(期) 2016,(4) 所属期刊栏目 薄膜
研究方向 页码范围 14-17
页数 分类号 TG174.36
字数 语种 中文
DOI 10.13385/j.cnki.vacuum.2016.04.04
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 郎定木 中国工程物理研究院材料研究所 40 144 8.0 9.0
2 陈林 中国工程物理研究院材料研究所 55 229 8.0 13.0
3 刘清和 中国工程物理研究院材料研究所 11 87 6.0 9.0
4 王庆富 中国工程物理研究院材料研究所 27 143 8.0 10.0
5 肖红 中国工程物理研究院材料研究所 26 59 5.0 6.0
6 管卫军 中国工程物理研究院材料研究所 6 12 2.0 3.0
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研究主题发展历程
节点文献
贫铀
铝镀层
中频磁控溅射离子镀
组织结构
界面特性
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空
双月刊
1002-0322
21-1174/TB
大16开
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
8-30
1964
chi
出版文献量(篇)
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3
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