M{2,3},M{2,4}和M{2,3,4}的有效刻画

• 作者: 征道生
• 来源期刊: 华东师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 数学
• 关键词: 广义逆的有效刻画 矩阵的奇异值分解 正交投影矩阵 映射公式的逆象指数集 稠密子集
• 年，卷（期）: 2016,（2）
• 所属期刊栏目: 数学
• 页码范围: 9-19
• 页数: 11页
• 分类号: O151.21|O177.7
• 字数: 5923字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-5641.2016.02.002

摘要

集合A到集合B上的一个一一映射f称为B的一个有效刻画.本文提出的选逆象指标法(SIIIM)给出集A1={α∶α=(Is,η)T∈Cns×s}到象集B1={β∶β=α(α*α)-1α*,α∈A1｝的一个有效刻画公式,并证明了B1是I{2,3}s的稠密子集,且I{2,3}s的每个元素都与B1的某个元素置换相似.利用上述结果,分别建立了I{2,3}和长方阵广义逆矩阵类M{2,3}的有效刻画公式.再利用等式I{2,3}s=I{2,4｝s=I{2,3,4}s,进一步获得了M{2,4｝,M{2,3,4}的有效刻画公式.算法3.1可用于无重复地计算I{2,3}s的任一个元素.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	征道生	华东师范大学数学系	2	1	1.0	1.0